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如何建造一個(gè)百級(jí)半導(dǎo)體芯片潔凈室

半導(dǎo)體芯片制造屬于光電半導(dǎo)體行業(yè)，有專門的半導(dǎo)體芯片潔凈室廠房，其生產(chǎn)車間需要達(dá)到百級(jí)潔凈室。

1、半導(dǎo)體芯片制造的基本流程

制作一顆半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)線是非常復(fù)雜的，大約會(huì)涉及到五十個(gè)行業(yè)、2000-5000個(gè)工序；就拿代工廠來說，需要先將“砂子”提純成硅，再切成晶元，然后加工晶元；晶元加工廠包含前后兩道工藝，前道工藝分幾大模塊——光刻、薄膜、刻蝕、清洗、注入；后道工藝主要是封裝——互聯(lián)、打線、密封；光刻是制造和設(shè)計(jì)的紐帶；其中許多工藝都在獨(dú)立的工廠進(jìn)行，而使用的設(shè)備也需要專門的設(shè)備廠制造；使用的材料包括幾百種特種氣體、液體、靶材，都需要專門的化工工業(yè)；另外，集成電路的生產(chǎn)都是在超凈潔凈室進(jìn)行的，因此還需要排風(fēng)和空氣凈化等系統(tǒng)。

2、百級(jí)半導(dǎo)體芯片潔凈室廠房

半導(dǎo)體芯片廠對于生產(chǎn)環(huán)境的空氣潔凈度非常挑剔，就算是一粒小小的粉塵，粘在半導(dǎo)體芯片上也可能造成短路，進(jìn)而直接影響成品率；粉塵的危害尚且如此，空氣中的化學(xué)污染就更不用說了；因此，半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)一般是在無塵室中進(jìn)行，并且生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的潔凈室潔凈度達(dá)到百級(jí)。

3、潔凈度百級(jí)潔凈室的標(biāo)準(zhǔn)：

大于等于0.5μm的塵粒數(shù)大于350粒/m3（0.35粒/L）到小于等于3500粒/m3（3.5粒/L）；大于等于5μm的塵粒數(shù)為0；

微生物大允許數(shù)：浮游菌每立方米不能超過5個(gè)；

溫度：22℃±2；

濕度：55%±5；

基本需要滿布FFU，做高架地板；

做MAU+FFU+DC系統(tǒng)，還有保持正壓，相鄰房間壓力梯度保證在10pa左右；

百級(jí)潔凈室若非得用換氣次數(shù)來衡量的話200次/h以上；

百級(jí)潔凈室若是以層流風(fēng)速來說的話>0.35 m/s；

百級(jí)潔凈室若以HEPA高效空氣過濾器對吊頂覆蓋率的話>50%。

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